稀土沉淀并煅烧成稳定的氧化物,磨成细粉。稀土铈基抛光材料通常含有70以上的稀土氧化物(含40%以上的氧化物)。稀土铈基抛光材料产品具有成分均匀、颗粒尺寸和形状一致性好的优点,但主要用于光学玻璃。高水平抛光粉(99%以上的氧化物)用于特殊玻璃的抛光。其颗粒形状和硬度均匀,纯度高,表面均匀,无缺陷,无杂质污染。常用于抛光精密光学仪器、激光晶体和半导体元件。稀土抛光粉的要求不同于类似的稀土产品。就抛光粉而言,虽然对化学纯度有要求,但它不是决定性因素,而是决定性因素。
镧铈抛光粉
合成法镧铈抛光粉
铈基抛光粉
铈基抛光液
合成法镧铈抛光液