稀土沉淀并煅烧成稳定的氧化物，磨成细粉。稀土铈基抛光材料通常含有70以上的稀土氧化物(含40%以上的氧化物)。稀土铈基抛光材料产品具有成分均匀、颗粒尺寸和形状一致性好的优点，但主要用于光学玻璃。高水平抛光粉(99%以上的氧化物)用于特殊玻璃的抛光。其颗粒形状和硬度均匀，纯度高，表面均匀，无缺陷，无杂质污染。常用于抛光精密光学仪器、激光晶体和半导体元件。稀土抛光粉的要求不同于类似的稀土产品。就抛光粉而言，虽然对化学纯度有要求，但它不是决定性因素，而是决定性因素。