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铈基抛光液

铈基抛光液的关键技术:公司采用合成湿法磨工艺制成高纯度超细纳米级铈基稀土抛光粉,通过将高纯度超细纳米级铈基稀土抛光粉液体化,按照相应的比例和参数,物理合成适量的稀土元素,通过中和、压缩、过滤、分级等工艺,使产品满足不同抛光产品和材质的要求。

内容介绍 / introduce
  铈基抛光液的关键技术:公司采用合成湿法磨工艺制成高纯度超细纳米级铈基稀土抛光粉,通过将高纯度超细纳米级铈基稀土抛光粉液体化,按照相应的比例和参数,物理合成适量的稀土元素,通过中和、压缩、过滤、分级等工艺,使产品满足不同抛光产品和材质的要求。

  其产品性能:根据不同磨料和抛光产品,采用专用加工和配方,使产品表面的光洁度和光滑度达到技术要求,避免了抛光过程中的划伤和缺陷。

  产品特点:稳定性高、分散性好、抛光速度快、磨削力强、五抛光缺陷、可循环使用。

  应用领域:该系列中端产品主要应用于精密光学玻璃镜片、红外材料和激光晶体、生物医学植入物和设备、金属样品制备、光纤和组件、航空和航空零部件、蓝宝石光学基板、标准玻璃、视频玻璃的抛光研磨。

  该系列产品主要用于集成电路、半导体硅片、电子芯片等产品的抛光。


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