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高铈抛光粉

高铈抛光粉的关键技术:通过将氯化铈稀土进行合成、焙烧、破碎、分级等工艺制成粒度在0.4um-3.0um氧化铈稀土抛光粉。该产品主要用于光学玻璃、集成电路基板玻璃、电镀基板玻璃、高精度光学镜头、照像机镜头、飞机钢化玻璃、各种显示器玻璃等高精度的研磨抛光等10多个规格型号的产品。也可用在水钻、烫钻、玻璃饰品等。

内容介绍 / introduce
  高铈抛光粉的关键技术:通过将氯化铈稀土进行合成、焙烧、破碎、分级等工艺制成粒度在0.4um-3.0um氧化铈稀土抛光粉。

  该产品主要用于蓝玻璃、微晶玻璃、集成电路基板玻璃、电镀基板玻璃、高精度光学镜头、照像机镜头、飞机钢化玻璃、各种显示器玻璃等高精度的研磨抛光等10多个规格型号的产品。也可用在水钻、烫钻、玻璃饰品等。

  产品主要特点:粒度细,分布合理,比表面积大,抛光过程中附着力强,悬浮性好,不易沉降。颗粒耐磨,抛光速度快,易清洗。


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