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铈基抛光材料的抛光要求有哪些？

来源：www.btslckj.cn | 发布时间：2022年06月28日

铈基抛光材料的抛光要求有哪些？

铈基抛光材料的基本要求：

铈基抛光材料微粉粒度均匀，在允许的范围内；颗粒的大小和均匀性决定了抛光速度和精度，筛网可以掌握粉末的相对粒度值，平均粒度决定了抛光粉末粒度的整体水平。

铈基抛光材料纯度高，无机械杂质；

铈基抛光材料

为保障铈基抛光材料加工过程的均匀性和效率，具有突出的分散性和吸附性，可适量添加LBD-1.分散剂提高悬浮率；好的抛光粉应具有良好的悬浮性能。粉末的形状和粒度对悬浮性能有影响。纳米粒径抛光粉的悬浮性能相对较好，抛光粉一般选用要求较高的抛光粉。

铈基抛光材料粉末颗粒具有晶格形状，破碎时形成尖锐的尖角，提高抛光效率；粉末的晶体形状是单晶颗粒聚集在一起，决定了粉末的切割、耐磨性和流动性。粉末聚集在一起的单晶颗粒在抛光过程中分离（破碎），使其切割和耐磨性逐渐降低。球形抛光粉具有切割性、耐磨性和流动性。

铈基抛光材料具有适当的硬度和密度，水具有良好的渗透性和悬浮性。由于抛光粉需要与水混合，硬度较大的粉末具有快速切割效果，添加一些助磨剂也可以改善切割效果；不同的应用领域将有很大的收支，包括自己的加工技术。

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