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影响铈基抛光材料光学抛光的因素

来源：www.btslckj.cn | 发布时间：2022年08月08日

影响铈基抛光材料光学抛光的因素

在铈基抛光材料光学抛光处理中，选择合理的运动模式和抛光路径是重要的一步，抛光运动主要是实现磨削运动，因此运动状态将直接影响抛光过程的精度和生产效率，因此，在平面抛光机抛光过程中，铈基抛光材料抛光运动应满足以下几点：

铈基抛光材料

1.加工工件时，整个抛光运动要从头到尾平稳。

2.抛光运动的目的是保障工件能够均匀地接触到抛光轮的整个表面。

3.所选的抛光运动应使轨迹有规律地改变方向，尽早避免重复。

4.在抛光运动过程中，抛光运动还应根据不同的抛光工艺需要选择理想的运动抛光速度。

5.在抛光运动过程中，磨具和工件应处于悬浮状态，而不是受限制。

6.抛光运动应保障工件抛光均匀，即工件表面各点之间的距离应尽可能相等。

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