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磨料在cmp作用在抛光液中

来源:www.btslckj.cn  |  发布时间:2022年11月29日
  抛光剂是cmp抛光液的主要成分。在抛光过程中,它通过微切割.微刮擦.工件表面采用滚压等功能,实现机械去除材料的功能。

  上海铈基抛光液供应商根据磨料成分,抛光液一般分为单磨料抛光液.混合磨料抛光液和复合磨料抛光液研磨剂在cmp抛光过程中的功能是:

  1.机械动作的实施者起到机械研磨的作用;

  2.材料传输的功能不仅是在抛光垫和抛光材料之间传输新鲜的浆料,还可以去除材料表面的反应物,泄漏材料的新表面,进一步减少反应。


上海铈基抛光液


  因此,在选择上cmp抛光液时,记得要考虑良好的分散性.流动性好.抛光液产品硬度适中,易于清洗。

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